Vakuumsysteme mit Oberflächenkondensatoren

Vielfältige Verwendungsmöglichkeiten bieten die individuell auf jeden Anwendungsfall ausgelegten mehrstufigen Körting Vakuumsysteme. In der Prozesstechnik hat sich der Einsatz von Oberflächenkondensatoren bewährt. Der große Vorteil liegt dabei in der Trennung von Kühlwasser und Prozessmedium. Körting Vakuumsysteme mit Oberflächenkondensatoren sind in verschiedenen Optionen verfügbar.

 

Im hier zubeschriebenen Schema ist ein dreistufiges Vakuumsystem dargestellt. In diesem Beispiel werden zwei Strahlpumpenstufen direkt hintereinander geschaltet, um einen Saugdruck von 1 mbar bei minimalem Einsatz von Treibmitteln zu erreichen. Die Temperatur des zur Verfügung stehenden Kühlwassers bestimmt den erreichbaren Druck im ersten Oberflächenkondensator. Eine weitere Strahlpumpenstufe verdichtet die nicht kondensierten Bestandteile aus dem ersten Oberflächenkondensator. Im nachgeschalteten Oberflächenkondensator wird der Treibdampf der vorgeschalteten Strahlpumpe kondensiert.

Funktionsschema einer Dampfstrahl-Vakuumanlage mit Oberflächenkondensator
Funktionsschema einer Dampfstrahl-Vakuumanlage mit Oberflächenkondensator

Vorteile auf einen Blick

  • Trennung von Prozess- und Kühlwasser
  • Jahrzehnte langer, bewährter Einsatz
  • Fertigung durch Körting unter höchsten Qualitätsstandards

 

Nachteil

  • Verschmutzungsgefahr prozess- und kühlwasserseitig

Zeit, zu reden.

Individuelle Lösungen entstehen im konsequenten Dialog mit unseren Kunden - darum setzen wir auf eine größtmögliche Kundennähe.

Körting Support

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